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ASTM F 2113-2001 薄膜电子设备用高纯度金属溅涂靶杂...

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兑水

发表于 2009-12-6 16:40:27 | 显示全部楼层 |阅读模式

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F2113-01e1 Standard Guide for Analysis and Reporting the Impurity Content and Grade of High Purity Metallic Sputtering Targets for Electronic Thin Film Applications

ASTM, 电子, 薄膜, 设备, 金属

ASTM F 2113-2001.pdf

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