求膜片厚度分析仪校准

求以下型号膜片厚度分析仪校准方法，或者那里可以校准，谢谢！

Filmetrics光学膜厚测量仪的详细介绍
其可测量薄膜厚度在1nm到1mm之间，测量精度高达1埃，测量稳定性高达0.7埃，测量时间只需一到二秒, 并有手动及自动机型可选。可应用领域包括：生物医学（Biomedical）, 液晶显示(Displays), 硬涂层(Hard coats), 金属膜(Metal), 眼镜涂层(Ophthalmic) , 聚对二甲笨(Parylene), 电路板(PCBs&PWBs), 多孔硅(Porous Silicon), 光阻材料(Thick Resist),半导体材料(Semiconductors) , 太阳光伏(Solar photovoltaics), 真空镀层(Vacuum Coatings), 圈筒检查(Web inspection applications)等。

通过Filmetrics膜厚测量仪最新反射式光谱测量技术,最多4层透明薄膜厚度、 n、k值及粗糙度能在数秒钟测得。其应用广泛，例如 :
半导体工业 : 光阻、氧化物、氮化物。
LCD工业 : 间距 (cell gaps)，ito电极、polyimide 保护膜。
光电镀膜应用 : 硬化镀膜、抗反射镀膜、过滤片。

极易操作、快速、准确、机身轻巧及价格便宜为其主要优点，Filmetrics提供以下型号以供选择:

F20 : 这简单入门型号有三种不同波长选择(由220nm紫外线区 至1700nm近红外线区)为任意携带型，可以实现反射、膜厚、n、k值测量。

F30:这型号可安装在任何真空镀膜机腔体外的窗口。可实时监控长晶速度、实时提供膜厚、n、k值。并可切定某一波长或固定测量时间间距。更可加装至三个探头，同时测量三个样品，具紫外线区或标准波长可供选择。

F40:這型號安裝在任何顯微鏡外，可提供最小5um光點(100倍放大倍數)來測量微小樣品。

F50:這型號配備全自動XY工作台，由8"x8"到18"x18"或客戶提供所需尺寸均可。通过快速扫瞄功能，可取得整片样品厚度分布情况(mapping)。

F70:仅通过在F20基本平台上增加镜头，使用Filmetrics最新的颜色编码厚度测量法（CTM），把设备的测量范围极大的拓展至3.5mm。

F10-RT：在F20实现反射率跟穿透率的同时测量，特殊光源设计特别适用于透明基底样品的测量。

PARTS：在垂直入射光源基础上增加70o光源，特别适用于超薄膜层厚度和n、k值测量。
                                                                                                                                       

高级膜厚测量仪系统F20

使用F20高级分光计系统可以简便快速的测量厚度和光学参数（n和k）。您可以在几秒钟内通过薄膜上下面的反射比的频谱分析得到厚度、折射率和消光系数。任何具备基本电脑技术的人都能在几分钟内将整个桌面系统组装起来。

F20包括所有测量需要的部件：分光计、光源、光纤导线、镜头集合和Windows下运行的软件。您需要的只是接上您的电脑。

膜层实例
几乎任何光滑、半透明、低吸收的膜都能测。包括：
sio2（二氧化硅）           sinx（氮化硅）                            dlc（类金刚石碳）
photoresist（光刻胶）     polyer layers（高分子聚合物层）      polymide（聚酰亚胺）
polysilicon（多晶硅）      amorphous silicon（非晶硅）

基底实例：
对于厚度测量，大多数情况下所要求的只是一块光滑、反射的基底。对于光学常数测量，需要一块平整的镜面反射基底；如果基底是透明的，基底背面需要进行处理使之不能反射。
包括：
silicon（硅）            glass（玻璃）               aluminum（铝）
gaas（砷化镓）        steel（钢）                 polycarbonate（聚碳酸脂）
polymer films（高分子聚合物膜）

应用
半导体制造
液晶显示器
光学镀膜
photoresist光刻胶
oxides氧化物
nitrides氮化物
cell gaps液晶间隙
polyimide聚酰亚胺
ito纳米铟锡金属氧化物
hardness coatings硬镀膜
anti-reflection coatings增透镀膜
filters滤光

f20 使用高级仿真活动来分析光谱反射率数据。

标准配置和规格

F20-UV
F20
F20-NIR
F20-EXR
只测试厚度
1nm ~ 40μm
15nm ~ 100μm
100nm ~ 250μm
15nm ~ 250μm
测试厚度和n&k值
50nm and up
100nm and up
300nm and up
100nm and up
波长范围
200-1100nm
380-1100nm
950-1700nm
380-1700nm
准确度
大于 0.4％ 或 2nm
精度
1A
2A
1A
稳定性
0.7A
1.2A
0.7A
光斑大小
20μm至1.5mm可选
样品大小
1mm至300mm 及更大
探测器类型
1250-元素硅阵列
512-元素 砷化铟镓
1000-元素 硅 & 512-砷化铟镓阵列
光源
钨卤素灯，氚灯
电脑要求
60mb 硬盘空间
50mb 空闲内存
usb接口
电源要求
100-240 vac, 50-60 hz, 0.3-0.1 a

选配以下镜头，就可在F20的基础上升级为新一代的F70膜厚测量仪。
镜头配件
厚度范围
(Index=1.5)
精度
光斑大小
UPG-F70-SR-KIT
15 nm-50 μm
0.1 nm
标配1.5 mm (可选配下至20 μm)
LA-CTM-VIS-1mm
50 μm-1.5 mm
0.15 μm
5 μm
LA-CTM-VIS-2.4mm
150 μm-3.5 mm
0.1 μm
10 μm

绝对不是广告哈！！