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[其它] 紫外掩膜光刻机

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text 发表于 昨天 13:55 | 显示全部楼层 |阅读模式
随手拍
仪器图片:
仪器名称: 紫外掩膜光刻机
仪器俗称/别名:
英文名称:
型号规格: SUSS MA6/8Gen4
生产厂家: SUSS MicroTec
技术指标: 光强大小:365nm,64.36mW/cm²;405nm,153.3mW/cm²,光强均匀性优于±2.5%
正面套刻精度可达±0.5μm
背面套刻精度可达±1.0μm
测量范围:
等级:
分辨率:
描述: 光刻技术:利用光学原理将图案投影到硅片上。当光源发出紫外时,通过掩膜上的缝隙投射到硅片上,硅片表面涂有光刻胶,在光的作用下,光刻胶的分子结构发生变化。经过显影处理,光刻胶的未受光照部分被去除,从而得到样品制作。
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